用于半导体制造的高纯度特种化学品的生产一直在不断发展，以满足设备制造商日益增长的质量需求。几年前可以接受的污染物浓度现在却是不可接受的。由于这些化学品是水基的，因此减少污染的主要目标是UPW质量。 金属（包括硼）、二氧化硅、TOC和颗粒是这些生产商最常见的污染物。

大多数化学品生产商已经拥有系统和基础设施，可以实施修改和附加技术以减少污染物。然而，这并不像看起来那么容易，因为在跟上生产需求的同时保持改造可能具有挑战性。

化学品生产商面临的废水挑战包括设备老化、产量增加、具有不同化学成分的新产品、城市取水量限制、设施出水量或受监管物种的限制以及企业可持续发展目标。无论是新的生产设施还是现有的生产设施，Evoqua都可以提供UPW和废水解决方案，以确保高纯度特种化学品生产商满足其UPW质量，废水排放和可持续发展目标。