半导体工业的制造过程几乎每一阶段都需要超纯水。将进水处理到高质量水平需要工艺和水处理技术来去除污染物、矿物质、微生物以及微量有机和非有机化学品。
仅仅满足今天的水质要求是不够的，Evoqua知道下一个技术周期将要求更严格的技术规范，这将增加生产的每一块芯片的成本。我们广泛的技术组合可以解决超纯水系统的三个步骤；补水系统、主系统和抛光系统。
补水系统 - 包括过滤、颗粒活性炭/氯控制、软化/结垢控制、pH调节和反渗透 (RO)。
主系统 - 包括降低TOC的 UV、膜脱气、去离子（CEDI或混床）和亚微米过滤。Evoqua的 VNX-EX CEDI系统专为半导体行业设计，具有无与伦比的硅和硼的去除能力。
抛光系统 - 包括降低 TOC的UV、膜脱气、混床去离子、亚微米过滤和超滤。Evoqua的NR-45 MegNano 混床离子交换树脂是我们的最新一代产品，已按照SEMI C-93协议进行测试。
为确保您的供水系统以最佳性能运行，我们可以通过我们的Water One® 服务提供无与伦比的服务，这是一种革命性的数字水管理解决方案，结合了Evoqua的专业知识、主动式服务、经验证的技术和数据智能。Water One® 服务通过使用技术提高运营和服务效率，确保您的水处理系统得到充分优化。
我们还可以帮助解决混床树脂更换、预防性维护和运营合同问题。我们的改造和升级解决方案可改善水质、提高可靠性、降低运行成本并扩容。对于用水点（POU）应用，我们的Vanox® POU系统和Vanox POU-F过滤产品产生的水超过ASTM E-1.2标准。
